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拉曼光譜成像系統

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石墨烯CVD制備設備

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石墨烯CVD制備設備,二維材料制備穩定可靠

所屬類別:材料分析設備 ? 拉曼光譜成像系統

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產品負責人:

姓名:賀工(Kevin)

電話:180 1976 2603

郵箱:chinan-he@wkbaza.com


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石墨烯CVD制備設備

這款配置的低真空CVD系統由1200℃真空管式爐,3通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶需要設計生產有雙溫區、三溫區、多溫區),可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統有質子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、閥均釆用進口設備,性能可靠。控制電躋選用模糊PD程控技術,具有控溫精度髙,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等。

技術參數

1200雙溫區加熱爐

電壓 AC220V 50/60Hz

功率 4.5KW 雙溫控

Max溫度 1150 °C

工作溫度 ≤ 1100 °C

升溫速率 ≤  15°C/min

溫控系統 PID自動控制晶閘管(可控硅)輸出功率,30段可編程控制器

恒溫精度 ±1°C

石英管 25/50/60/80*1400mm


三路質量流量控制系統

MAX電壓 185~245V/50Hz

MAX輸出功率  18W

流量計標準量程 50,100,200,500SCCM(非特殊指定以氮氣標定,量程可選定)

工作溫度 5~45  °C

工作壓差 0.1~0.5 MPa

MAX壓力 3MPa

準確度 ±1.5%FS


低真空系統

采用雙極旋片真空泵

不銹鋼充油真空壓力表,良好的抗震性

安裝過濾器


內置測溫系統

測溫元件可從加熱區邊緣延申至溫區中心法蘭密封,保證爐管的密封性測溫元件,N型熱電偶

法蘭及支撐

304不銹鋼快速水冷法蘭,長期水冷無腐蝕,一個卡箍就能完成法蘭的連接,放取物料方便快捷可調節法蘭的支撐,平衡爐管的受力支撐。包含進氣,出氣,真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合,4個密封硅膠圈等。


可選配件

混氣系統,中,高真空系統,各種剛玉坩堝,石英管,計算機控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀,冷卻水循環機。




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產品標簽:石墨烯, 二維材料, 光電器件, 材料制備, 二硫化鉬

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